Verlag des Forschungszentrums Jülich

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Nichau, Alexander
Characterization, integration and reliability of HfO2 and LaLuO3 high-k/metal gate stacks for CMOS applications
177 S., 2013, ISBN 978-3-89336-898-3

Inhaltsverzeichnis

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Heike Lexis
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Letzte Änderung: 07.06.2022